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cmpスラリー
半導体の微細化・高集積化が進む中、デバイス性能を左右する重要工程がCMP(化学機械研磨)です。その中核材料であるCMPスラリーは、ナノメートル精度でウェーハ表面を平坦化し、歩留まり向上に大きく貢献しま ....
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イメージ引用元:https://www.tatsuta.co.jp/lp/amaze-lab/引用元:https://www.orizuru.co.jp/引用元:https://www.taisei-fc.co.jp/tech_srv/service/processing.html
会社名タツタ電線株式会社(マゼラボ)株式会社トクシキ大成ファインケミカル株式会社
特徴電子材料メーカーの知見で分散課題を短期間で可視化・最適化独自の分散・配合・合成技術で高機能材料を創出する微分散とコーティング設計を軸に試作から量産まで支える技術力
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